沿革

2016年10月1日現在

1964(S39) 創業者安藤愃が東京都北区浮間に全協化成工業として工場を創設。
樹脂板加工を中心として営業を開始。
1966(S41) 資本金50万円で東京都千代田区神田に全協化成工業株式会社を設立。
理化学・医療機器・合成樹脂の加工・成型品の製造・販売を開始。
1968(S43) 資本金を125万円に増資。
1969(S44) 半導体周辺機器の製造販売を開始。
1971(S46) 資本金を300万円に増資。
1976(S51) 本社を東京都北区浮間に移転。
千代田区神田を営業所に変更。
1978(S53) 横型石英管洗浄装置を開発・販売を開始。
リードフレーム自動洗浄マスク洗浄装置等の半導体関連洗浄装置の設計・製作・据付工事を開始。
1979(S54) 資本金を500万円に増資。
1985(S60) 資本金を1,000万円に増資。
1986(S61) 埼玉県戸田市氷川町にクリーンルームを完備した埼玉事業所を開設。
1990(H2) 資本金4,000万円に増資。
資本金5,000万円に増資
2DCADシステム導入。
1992(H4) 縦型自動石英管洗浄装置の開発・販売を開始。
1993(H5) 社内通信環境を整備。
2DCADシステムをネットワーク化。
1996(H8) CMP装置用スラリー供給システムの開発・販売を開始。
機能水洗浄装置の共同実験開発・受託生産を開始。
ガラス基板用機能水洗浄装置の開発・販売を開始。
φ300ウェハ用洗浄装置の開発・販売を開始。
φ300ウェハ用スピンドライヤーの共同開発・販売を開始。
1997(H9) φ300ウェハ用厚み測定器及び表面形状測定器を共同開発。
1998(H10) φ300ウェハ用ピッチチェンジトランスファーの開発・販売を開始。
光ファイバー母材製造装置の開発・販売を開始。
全自動ウェハエッチング装置の開発・販売を開始。
太陽電池生産ライン装置の製造・販売を開始。
セミコン台湾に出展。
1999(H11) ウェハ保管BOX・保管庫の開発・販売を開始。
セミコンジャパンに出展。
2000(H12) φ300ウェハ用カセットレス洗浄装置の開発・販売を開始。
セミコン台湾に出展。
2001(H13) 社内LAN環境設備を新規構築。
光通信設備を導入。
2003(H15) CO2クリーニングシステムの開発。弊社埼玉事業所クリーンルームにデモ機を設置。
CO2クリーニングシステム・CO2精製装置・リサイクル装置の製造・販売を開始。
枚葉式洗浄装置の製造・販売を開始。
セミコンジャパンに出展
2005(H17) 「オゾン水による洗浄方法」を発表。
2006(H18) クリスタルガラス装飾品用エッチング装置の製造・販売を開始。
超純水装置の販売を開始。
2008(H20) オゾン水製造装置・排水オゾン分解装置の販売を開始。
2009(H21) FOUP BOX自動洗浄装置の製造・販売を開始。
大型ウェハ用カセットレス自動洗浄装置の開発・製造・販売を開始。
ウェハ端面エッチング装置の製造・販売を開始。
太陽電池用枚葉式エッチング装置の開発・販売を開始。
スラリー分級装置の製造・販売を開始。
過熱水蒸気洗浄装置の開発・製造・販売を開始。
光ファイバー母材製造装置の特許を取得。
ウェハ保管BOX・保管庫の特許を取得。
2010(H22) Sic用研削ラップ後プレート洗浄機の製造・販売を開始。
ガス警報装置保安システムの製造・販売を開始。
ドライエッチング装置の開発・製造・販売を開始。
2011(H23) 研磨プレート洗浄装置の製造・販売を開始。
平成23年度戦略基板技術高度化支援事業採択【EBL法による低コスト高品質4インチGaN基板量産技術開発】に共同参加。
手動ブラシスクラバー装置の製造・販売を開始。
2012(H24) アニール処理装置の開発・製造・販売を開始。
2013(H25) 形状測定レーザマイクロスコープ[VK-X100](300mmウェハステージ)を導入。
2014(H26) CO2ドライステーション(セミオートタイプ)の製造・販売を開始。
国内鉄道車両メーカー向け車両部品洗浄装置の製造・販売を開始。
機械器具設置工事業認可取得。
古物商許可証取得。
2015(H27) 社内LAN設備更新。
既存管理システムにSSDサーバを導入。
2016(H28) 3DCADシステム導入。
全自動プレアニール洗浄装置の製造・販売を開始。
2017(H29) 埼玉事業所の耐震化工事を実施。

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