企業情報
企業 |
開発・製造・販売 |
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1964年
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創業者安藤愃が東京都北区浮間に
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樹脂板加工を中心として営業を開始。 |
1966年
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資本金50万円で東京都千代田区神田に
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理化学・医療機器・合成樹脂の加工
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1968年
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資本金を125万円に増資。 |
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1969年
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半導体周辺機器の製造販売を開始。 |
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1971年
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資本金を300万円に増資。 |
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1976年
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本社を東京都北区浮間に移転。
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1978年
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横型石英管洗浄装置を開発・販売を開始。
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1979年
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資本金を500万円に増資。 |
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1985年 |
資本金を1,000万円に増資。 |
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1986年
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埼玉県戸田市氷川町に
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1990年
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資本金4,000万円に増資。
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1992年
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縦型自動石英管洗浄装置の開発・販売を開始。 |
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1993年
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社内通信環境を整備。
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1996年
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CMP装置用スラリー供給システムの開発・販売を開始。
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1997年
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φ300ウェハ用厚み測定器及び表面形状測定器を共同開発。 |
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1998年
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セミコン台湾に出展。 |
φ300ウェハ用ピッチチェンジトランスファーの開発・販売を開始。
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1999年
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セミコンジャパンに出展。 |
ウェハ保管BOX・保管庫の開発・販売を開始。 |
2000年
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セミコン台湾に出展。 |
φ300ウェハ用カセットレス洗浄装置の開発・販売を開始。 |
2001年
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社内LAN環境設備を新規構築。
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2003年
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セミコンジャパンに出展 |
CO2クリーニングシステムの開発。
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2005年
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「オゾン水による洗浄方法」を発表。 |
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2006年
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クリスタルガラス装飾品用エッチング装置の製造・販売を開始。
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2008年
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オゾン水製造装置・排水オゾン分解装置の販売を開始。 |
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2009年
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光ファイバー母材製造装置の特許を取得。
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FOUP BOX自動洗浄装置の製造・販売を開始。
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2010年
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保養施設としてリゾートトラスト社と契約。 |
Sic用研削ラップ後プレート洗浄機の製造・販売を開始。
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2011年
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平成23年度戦略基板技術高度化支援事業採択
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研磨プレート洗浄装置の製造・販売を開始。
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2012年
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アニール処理装置の開発・製造・販売を開始。 |
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2013年
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形状測定レーザマイクロスコープ
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2014年
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機械器具設置工事業認可取得。
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CO2ドライステーション(セミオートタイプ)の製造・販売を開始。
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2015年
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社内LAN設備更新。
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2016年
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3DCADシステム(SOLID WORKS)導入。 |
全自動プレアニール洗浄装置の製造・販売を開始。 |
2017年
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埼玉事業所の耐震化工事を実施。
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2018年
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電話設備更新。
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2019年
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埼玉事業所の屋上防水を実施。
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2020年
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埼玉事業所のサーバシステムを更新。
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2021年
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流体解析システム(scFLOW)導入。
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2022年
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第2工場を新設。 |
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2023年
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埼玉県入間郡三芳町上富867の新三芳工場を契約満了により閉鎖。
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2024年
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感染症予防対策として館内にAirdogを導入。 2024年10月1日より敷地内全面禁煙を施行。 |